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靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）工藝，是制備半導體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。

濺射工藝最早起源于國外。起初濺射過程具有工作氣壓高、濺射基體溫升高、濺射沉積速率低等缺點，不滿足工業化生產的條件。自 20 世紀 80 年代以來，隨著輔助電極、磁控濺射、脈沖電源等新技術的應用，濺射工藝優勢逐步顯現，應用范圍不斷拓寬。目前濺射工藝已廣泛應用于各種薄膜材料的工業化制備，是目前主流的鍍膜方法。

在行業發展初期，濺射靶材及配套鍍膜設備均為國外廠商提供。由于國外濺射靶材廠商與設備廠商具有長期配套磨合的經驗，靶材在使用過程中的濺射效果能夠充分滿足下游客戶的需求，具有較強的先發優勢及競爭優勢。因此，全球濺射靶材的研發及生產主要集中于美國、日本及德國等國家的少數公司，產業集中度較高。經過幾十年的技術積淀，這些國外廠商憑借其雄厚的技術力量、精細的生產控制和過硬的產品質量居于全球高端濺射靶材市場的主導地位。

受到發展歷史及技術限制的影響，我國濺射靶材行業起步較晚，目前多數濺射靶材企業產品仍主要應用于下游的中低端產品，高端濺射靶材產品則多為國外進口。全球濺射靶材市場中主要的四家企業 JX 金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，合計壟斷了全球約八成的市場份額。近年來，隨著平面顯示、半導體等制造產業產能向國內不斷轉移，國內濺射靶材需求已占到全球需求的約三成以上，隨著包括疫情在內的周邊和國際環境的變化，實現國內重點行業關鍵設備核心材料的自主可控具有必要性。

近年來，受益于國家從戰略高度持續地支持電子材料行業的發展及應用推廣，我國國內開始出現少量專業從事高性能濺射靶材研發和生產的企業，并成功開發出一批能適應高端應用領域的濺射靶材，為高性能濺射靶材的大規模產業化生產提供了良好的研發基礎和市場化條件。

第一章　靶材相關介紹

1.1　靶材基本概述

1.1.1　靶材概念界定

1.1.2　靶材主要特點

1.1.3　靶材分類標準

1.2　靶材產品類別

1.2.1　金屬靶材

1.2.2　陶瓷靶材

1.2.3　合金靶材

第二章　2017-2021年中國靶材行業發展環境分析

2.1　經濟環境

2.1.1　世界經濟形勢分析

2.1.2　國內宏觀經濟概況

2.1.3　工業經濟運行情況

2.1.4　國內宏觀經濟展望

2.2　政策環境

2.2.1　靶材行業監管體制

2.2.2　靶材主要法律法規

2.2.3　進口靶材免稅期結束

2.2.4　靶材其他相關政策

2.3　需求環境

2.3.1　芯片行業快速發展

2.3.2　國產化代替空間大

2.3.3　下游需求向國內轉移

2.4　產業環境

2.4.1　半導體制造材料發展現狀

2.4.2　半導體制造材料競爭格局

2.4.3　半導體制造材料發展特點

2.4.4　半導體制造材料發展前景

2.4.5　半導體制造材料發展趨勢

第三章　2017-2021年中國靶材行業發展綜合分析

3.1　靶材行業發展概況

3.1.1　行業產業鏈分析

3.1.2　行業應用結構

3.1.3　主要制備工藝

3.1.4　主要制約因素

3.1.5　國內外技術差距

3.2　靶材行業運行狀況分析

3.2.1　全球市場規模

3.2.2　國內需求分析

3.2.3　行業發展形勢

3.2.4　市場競爭格局

3.2.5　典型企業布局

3.3　PVD鍍膜材料行業發展分析

3.3.1　材料基本概述

3.3.2　行業發展特性

3.3.3　行業競爭格局

3.3.4　行業進入壁壘

3.3.5　行業主要企業

第四章　2017-2021年中國ITO靶材行業發展分析

4.1　ITO靶材行業相關介紹

4.1.1　ITO靶材基本概述

4.1.2　ITO靶材研究背景

4.1.3　ITO靶材成形工藝

4.1.4　ITO靶材發展意義

4.1.5　ITO靶材發展挑戰

4.2　ITO靶材行業運行狀況分析

4.2.1　ITO靶材發展現狀

4.2.2　ITO靶材市場規模

4.2.3　ITO靶材市場競爭

4.2.4　ITO靶材廠商發展

4.2.5　ITO靶材項目可行性

4.3　ITO靶材波特五力模型分析

4.3.1　供應商議價能力分析

4.3.2　消費者議價能力分析

4.3.3　新進同行業的威脅分析

4.3.4　替代品的威脅分析

4.3.5　同行業競爭能力分析

第五章　2017-2021年中國靶材行業下游應用領域發展分析

5.1　光伏電池靶材

5.1.1　應用狀況分析

5.1.2　市場規模分析

5.1.3　行業競爭格局

5.1.4　行業發展挑戰

5.1.5　行業發展展望

5.2　磁記錄用靶材

5.2.1　行業發展概況

5.2.2　市場規模分析

5.2.3　行業競爭格局

5.2.4　行業發展挑戰

5.2.5　行業發展展望

5.3　面板靶材

5.3.1　面板價格走勢

5.3.2　面板靶材應用

5.3.3　市場規模分析

5.3.4　行業競爭格局

5.3.5　行業發展挑戰

5.3.6　行業發展展望

5.4　半導體靶材

5.4.1　行業發展概況

5.4.2　市場規模分析

5.4.3　行業競爭格局

5.4.4　企業認證周期

5.4.5　行業技術發展

5.4.6　市場需求預測

第六章　國際靶材行業領先企業經營狀況分析

6.1　A

6.1.1　企業發展概況

6.1.2　企業經營情況分析

6.2　B

6.2.1　企業發展概況

6.2.2　企業經營情況分析

6.3　C

6.3.1　企業發展概況

6.3.2　企業經營情況分析

第七章　中國靶材行業重點企業經營狀況分析

7.1　A公司

7.1.1　企業發展概況

7.1.2　經營效益分析

7.1.3　業務經營分析

7.1.4　財務狀況分析

7.1.5　核心競爭力分析

7.1.6　公司發展戰略

7.2　B公司

7.2.1　企業發展概況

7.2.2　經營效益分析

7.2.3　業務經營分析

7.2.4　財務狀況分析

7.2.5　核心競爭力分析

7.2.6　公司發展戰略

7.3　C公司

7.3.1　企業發展概況

7.3.2　經營效益分析

7.3.3　業務經營分析

7.3.4　財務狀況分析

7.3.5　核心競爭力分析

7.3.6　公司發展戰略

7.4　D公司

7.4.1　企業發展概況

7.4.2　經營效益分析

7.4.3　業務經營分析

7.4.4　財務狀況分析

7.4.5　核心競爭力分析

7.4.6　公司發展戰略

第八章　中國靶材行業標桿企業項目投資建設案例深度解析

8.1　平板顯示濺射靶材建設項目

8.1.1　項目發展概況

8.1.2　項目投資概算

8.1.3　項目實施進度

8.1.4　項目經濟效益

8.2　超高清顯示用銅靶材產業化建設項目

8.2.1　項目發展概況

8.2.2　項目投資概算

8.2.3　項目實施進度

8.2.4　項目經濟效益

8.3　鋁鈧靶材和鉬靶材的研發建設項目

8.3.1　項目發展概況

8.3.2　項目投資概算

8.3.3　項目實施進度

8.3.4　項目經濟效益

第九章　2017-2021年中國靶材行業投資機會分析及風險預警

9.1　中國靶材行業投資機會

9.1.1　國家政策支持

9.1.2　大基金二期加持

9.1.3　下游快速發展

9.1.4　國產替代及產能轉移

9.2　中國靶材行業投資價值

9.2.1　行業投資的必要性

9.2.2　行業投資的可行性

9.3　中國靶材行業投資壁壘

9.3.1　客戶認證壁壘

9.3.2　資金壁壘

9.3.3　技術壁壘

9.3.4　人才壁壘

9.4　中國ITO靶材項目投資風險評估

9.4.1　技術風險

9.4.2　財務風險

9.4.3　市場風險

9.4.4　管理風險

9.5　中國ITO靶材項目投資建議

9.5.1　提高技術水平

9.5.2　完善財務制度

9.5.3　提高管理水平

9.5.4　提高營銷能力

9.5.5　其他方面建議

第十章　2022-2028年中國靶材行業發展前景及趨勢預測

10.1　中國靶材行業發展前景

10.1.1　靶材技術發展趨勢

10.1.2　ITO靶材發展機遇

10.1.3　ITO靶材前景展望

10.2　2022-2028年中國靶材行業預測分析

10.2.1　2022-2028年中國靶材行業影響因素分析

10.2.2　2022-2028年中國靶材市場規模預測